铬薄膜的热氧化：初始金属结构的作用
对比 DCMS、HiPIMS 与双极 HiPIMS 三种磁控溅射沉积铬薄膜在 400–800℃ 空气中的热氧化行为。初始金属结构影响氧传输与氧化铬层发育：开放柱状膜氧化更早、生成更厚但有序度低的氧化铬；致密膜氧化延迟、生成更薄更均匀有序的 Cr₂O₃ 层。氧化伴随弹性硬化，调控初始结构可控制保护性氧化铬层的质量。
展开摘要溅射Cr膜初始结构决定氧化铬质量，PVD非热喷涂
共 2 篇（已按 高温氧化 筛选）
带有 Cr₂AlC 扩散阻挡层的 NiCrAlY 涂层 Ti-6Al-4V 合金：界面扩散与高温氧化机理
该研究用磁控溅射与电弧离子镀在SLM成形的Ti-6Al-4V上依次沉积Cr2AlC扩散阻挡层和NiCrAlY涂层，以抑制界面元素互扩散。4 μm厚Cr2AlC层在750-800 °C氧化50 h显著抑制Ti、V外扩散，保持涂层成分与相稳定；但在900 °C氧化50 h后发生内氧化、结构退化并产生Kirkendall空洞，Ti穿透阻挡层形成TiO2。
展开摘要非热喷涂，产线不能直接照搬