热喷涂零零一
2026-10-08
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真空电弧法在粗晶与超细晶 Ti–6Al–4V 钛合金上沉积的单层高熵涂层 (TiZrVCrAl)N 的微观结构、相组成与物理力学性能

Microstructure, Phase Composition and Physical and Mechanical Properties of a Monolayer High–Entropy Coating (TiZrVCrAl)N Deposited by the Vacuum–Arc Method on Coarse–Grained and Ultrafine–Grained Titanium Alloy Ti–6Al–4V

耐磨 高熵合金涂层 PVD涂层 相邻表面处理工艺,非热喷涂 摘要未给工艺参数
Physical Mesomechanics | Pleiades Publishing |closed
真空电弧HEA氮化物涂层,超细晶基体增益
AI理解
要点 真空电弧沉积 (TiZrVCrAl)N 高熵氮化物涂层:超细晶基体使硬度 702→1283 HV、Lc1/Lc2 提升约 33%/36%。
能不能用 PVD 类工艺(真空电弧)为相邻表面处理,非热喷涂;高熵氮化物涂层与热喷涂 HEA 涂层有材料借鉴意义。摘要给出性能数据但无沉积参数(弧电流、偏压、温度),无法复现。
存疑
  • 工艺为真空电弧PVD,非热喷涂
  • 缺沉积工艺参数
中文摘要
本文介绍了在粗晶和等通道转角挤压形成的超细晶结构的 Ti–6Al–4V 结构钛合金基体表面上,真空电弧沉积 (TiZrVCrAl)N 体系高熵单层氮化物涂层的实验工作结果。对形成的涂层进行了结构和相分析,并评估了其物理和力学性能。研究发现,通过剧烈塑性变形在基体中形成超细晶结构可显著改善单层涂层的特性:涂层显微硬度从 702.1 升至 1283.4 HV,划痕试验中首次开裂(Lc1)和涂层局部剥落(Lc2)的临界载荷分别提高约 33% 和 36%。X 射线衍射分析和精密微观结构研究揭示了超细晶基体上形成的涂层具有更细的结构,相干散射区尺寸为 6.57 nm,而粗晶基体上为 9.20 nm。所得结果令人信服地证明了基体超细晶结构对形成具有改进物理和力学性能(包括显微硬度、结合强度和结构-相状态)的高熵涂层的积极作用。
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DOI: 10.1134/s1029959926600199