热暴露 APS 与 EB-PVD YSZ 热障涂层的太赫兹时域光谱与成像表征
THz-TDs and imaging characterization of thermally exposed APS and EB-PVD YSZ thermal barrier coatings
THz无损检测区分APS/EB-PVD TBC退化,方法可借鉴
AI理解
要点 THz-TDS 无损表征 APS 与 EB-PVD YSZ 热障涂层:APS 层状多孔结构回波弱,EB-PVD 柱状结构回波清晰稳定;1100K 暴露后 APS 退化明显、EB-PVD 稳定,1300K 时两者均显示退化迹象。
能不能用 热障涂层无损检测方法研究,对 TBC 产线与服役监测有直接参考价值。摘要给出热暴露条件(1100/1300 K、10/20/40 h)与 THz 响应特征,但未给涂层制备参数(APS/EB-PVD 工艺参数),属检测方法层面参考。
存疑
- 缺工艺:APS/EB-PVD涂层制备参数未给
- THz表征为定性对比,未建立定量退化判据
中文摘要
由于微观组织不同,大气等离子喷涂(APS)与电子束物理气相沉积(EB-PVD)钇稳定氧化锆(YSZ)热障涂层在热暴露下可能表现出不同的响应。为更好地监测涂层结构与质量的变化,本研究采用太赫兹时域光谱与成像技术这一无损检测方法,表征并比较热暴露条件对 APS 和 EB-PVD YSZ 涂层的影响。结果表明,热暴露前,APS 涂层呈现层状结构,具有更多的孔隙和散射界面,导致二次回波较弱且多重反射不易区分。相比之下,EB-PVD 涂层呈现更规则的柱状结构、更清晰的多重回波和更均匀的空间响应。在 1100 K 暴露后,APS 涂层表现出暴露时长依赖的变化,包括二次回波幅度和宽度的变化、波形质量退化、THz 衍生厚度增加以及 THz 成像中空间不均匀性增强。相比之下,在 1100 K 下暴露 10 h、20 h 和 40 h 的 EB-PVD 涂层保持更清晰的一次和二次回波、较弱的波形退化以及相对稳定的空间均匀性,表明随暴露时长增加 THz 响应更稳定。当暴露温度升至 1300 K 时,APS 涂层表现出更宽的波形和更不规则的底部界面。对于 EB-PVD 涂层,1300 K 暴露导致回波幅度下降和飞行时间缩短,对应 THz 衍生厚度减小,而整体空间均匀性保持相对稳定。这些结果表明 THz-TDS 结合
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摘要中给出的工艺参数
| 其他 | 热暴露1100K/1300K,10/20/40h |
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DOI: 10.1117/12.3131826