TiAlCrN 涂层 Ti6Al4V 在盐性与酸性介质中的耐久性:钝化膜稳定性的多相分析
Durability of TiAlCrN coated Ti6Al4V in saline and acidic media via multiphase analysis of passive film stability
PVD TiAlCrN:Cr0.22配方钝化屏障最优
AI理解
要点 PVD 磁控共溅射 TiAlCrN:Cr0.22 富配方建立 (Al,Cr)₂O₃ 致密钝化层,腐蚀电流降至 607 μA/cm²,硬度提升 10-15%。
能不能用 PVD 类工艺为相邻表面处理,非热喷涂;TiAlCrN 涂层与热喷涂 Ti 基合金防护有材料借鉴意义。摘要给出成分-性能关系但无溅射参数(靶功率、偏压、温度),无法复现。
存疑
- 工艺为PVD磁控溅射,非热喷涂
- 缺溅射工艺参数
中文摘要
航空航天和海洋应用中的 Ti₆Al₄V 部件在严酷温度区间内经常遭受机械磨损与腐蚀退化的耦合作用。虽然 TiAlN 基体系提供良好的耐磨性,但通过调整 Cr 掺入以在增强钝化性的同时不引发微观组织脆化,仍未得到充分探索。在此,我们检验了精确平衡 Cr/Al 比决定致密钝化与缺陷氧化物生长之间转变的假设。使用等离子辅助 PVD 磁控共溅射,系统合成了三种不同成分——Ti0.25Al0.53Cr0.22N、Ti0.47Al0.37Cr0.16N 和 Ti0.90Al0.06Cr0.04N——以解耦各组分在结构、力学和电化学方面的作用。显微硬度测试显示,与裸基体相比,涂层硬度提升 10-15%。在 3.5 wt.% NaCl 和 3.5 wt.% H₂SO₄ 电解液中的动电位极化表明,富 Cr0.22 配方建立了致密、连贯的 (Al,Cr)₂O₃ 富钝化屏障,将合金的腐蚀电流密度降至 607 μA/cm²,并抵抗氯离子和硫酸盐侵蚀。相反,富 Ti 涂层形成了与晶格失配和晶粒粗化相关的不稳定屏障。
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